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含硅我氧铜检测

检测项目

1. 硅含量测定:采用光谱分析法测定0.1%-3.5%含量范围

2. 氧含量分析:通过惰性气体熔融法检测10-500ppm氧浓度

3. 导电率测试:按IACS标准测量≥85%导电率指标

4. 抗拉强度测试:评估300-600MPa区间拉伸性能

5. 维氏硬度检测:测量80-180HV硬度值范围

6. 微观结构分析:金相显微镜观察晶粒度(10-50μm)

检测范围

1. 电子元件用铜合金:连接器/引线框架材料

2. 航空航天结构件:耐高温导电部件

3. 电力传输组件:接触网线材/汇流排

4. 汽车散热器材料:高导热耐腐蚀板材

5. 工业模具材料:耐磨铸造铜合金

6. 核工业屏蔽材料:中子吸收构件

检测方法

ASTM E1479-2016 电感耦合等离子体原子发射光谱法测定硅含量

ISO 15351:2020 惰性气体熔融法测定金属中氧含量

GB/T 5121.3-2021 铜及铜合金化学分析方法-氧的测定

ASTM B193-20 导电材料电阻率标准测试方法

GB/T 228.1-2021 金属材料拉伸试验第1部分:室温试验方法

ISO 6507-1:2023 金属材料维氏硬度试验第1部分:试验方法

检测设备

1. SPECTROMAXx LMX06 ICP-OES光谱仪:多元素同步分析(0.001ppm检出限)

2. LECO ONH836氧氮氢分析仪:脉冲加热熔融法测氧(精度±0.5ppm)

3. SIGMATEST 2.069涡流导电仪:非接触式电导率测量(0.5% IACS精度)

4. Instron 5982万能材料试验机:100kN载荷拉伸测试(ISO 6892-1标准)

5. ZwickRoell ZHV30显微硬度计:自动维氏硬度测量(0.1HV分辨率)

6. Olympus GX53倒置金相显微镜:5000倍微观组织观测(晶粒度评级)

7. Bruker D8 ADVANCE X射线衍射仪:物相结构分析(0.01°角度分辨率)

8. Hitachi SU5000场发射电镜:纳米级表面形貌表征(1nm分辨率)

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

含硅我氧铜检测
其他检测

中析研究所可进行各种检测分析服务,包括不限于:标准试验,非标检测,分析测试,认证设计,产品验收,质量内控,矢量分析,内部控制,司法鉴定等。可出具合法合规、具有公信力的第三方检测报告。